四室及多腔室磁控濺射鍍膜設備：

     HD-SSCK1600-ICP是一款高兼容性設備，主要生產(chǎn)AR+DLC+AF ，NCVM+DLC+AF，同時可兼容菲林（NCVM）、車載、攝像頭超硬AR、IR-CUT等濾光片、人臉識別等產(chǎn)品。

     設備鍍膜工藝室不破空，功能鍍膜腔體分離，互不污染，穩(wěn)定性重復性優(yōu)異，采取整鼓平移連續(xù)的方式，省去抽放氣時間，極大提高生產(chǎn)效率。

◆工件轉動：1~120r/min無極可調
◆極限真空：<2.0E-4Pa
◆膜層均勻性： ≤1%（T Max.-Tmin.）/( T Max.+Tmin.)
◆有效鍍膜尺寸：Φ1600mm*H800
◆特點：四個功能腔室，互不污染，單腔體實現(xiàn)功能可做模塊化調整。
◆標準配置：CM1:前處理室（plasma）,CM2:光學鍍膜室（AR、NCVM等），CM3室：DLC 鍍膜室，CM4室:AF 蒸發(fā)室
◆優(yōu)勢產(chǎn)品：AR+DLC+AF;  NCVM+DLC+AF  鋼絲絨耐磨5000次水滴角大于100度，莫氏硬度>8(500g)