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三室磁控濺射鍍膜機(ICP離化型式)

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三室磁控濺射鍍膜機(ICP離化型式):

     三室磁控濺射鍍膜機是一款高兼容性設備,采用ICP 后離化模式,鍍膜效率高,適合做菲林(NCVM)、車載、攝像頭超硬AR、IR-CUT等濾光片、人臉識等產(chǎn)品??芍苽銷B2O5,SIO2 ,SI3N4,SIH,Cr,In等不同膜層,鍍膜工藝室不破空,穩(wěn)定性重復性優(yōu)異,采取整鼓平移連續(xù)的方式,省去抽放氣時間,極大提高生產(chǎn)效率。兼容3D異型車載玻璃。

工件轉(zhuǎn)動:1~120r/min無極可調(diào)
極限真空:<2.0E-4Pa
膜層均勻性: ≤1%(T Max.-Tmin.)/( T Max.+Tmin.)
有效鍍膜尺寸

HD-SCK1600-ICP有效濺濺射高度850mm,

HD-SCK1800-ICP有效濺射高度1250mm.

HD-SCK1800H-ICP有效濺射尺寸1500mm



公司自成立以來,一直是真空鍍膜設備行業(yè)內(nèi)的龍頭企業(yè),是行業(yè)內(nèi)少數(shù)具有鍍膜生產(chǎn)線設備整體設計及系統(tǒng)集成能力的企業(yè)之一,被中國通用機械工業(yè)協(xié)會真空設備分會認定為“真空設備行業(yè)重點企業(yè)”和“國內(nèi)真空鍍...

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