雙室磁控濺射鍍膜機HD-CK1200-ICP是一款高兼容性設備，適合做菲林（NCVM）、車載、攝像頭超硬AR、IR-CUT等濾光片、人臉識等產品;可制備NB2O5、SIO2 、SI3N4、SIH、Cr、In等不同膜層，鍍膜工藝室不破空，穩(wěn)定性重復性優(yōu)異，采取整鼓平移連續(xù)的方式。

◆工件轉動：1~120r/min無極可調
◆極限真空：<2.0E-4Pa
◆膜層均勻性： ≤1%（T Max.-Tmin.）/( T Max.+Tmin.)
◆有效鍍膜尺寸：
     HD-CK1200-ICP有效濺射區(qū)域Φ1200mm*H400mm